Waso Koshirice Acne Calming Spot Treatment punktowy żel do twarzy przeciw niedoskonałościom 20ml Ostatnie 2 sztuki SHISEIDO

Ta ukierunkowana kuracja z kwasem salicylowym pomaga redukować i zapobiegać pojawianiu się wyprysków, nie wysuszając skóry. Chłodząca formuła ma przezroczyste wykończenie, które można stosować pod lub na makijaż.

Kluczowe korzyści:
• Zmniejsza widoczność przebarwień w ciągu 1 tygodnia*
• Delikatny i nie wysuszający z przezroczystym wykończeniem
• Zawiera 0,5% kwasu salicylowego
• Tubka wykonana jest w 10% z polietylenu pochodzącego z trzciny cukrowej.
• Wegański, wolny od okropności, bez zapachu
• Testowany dermatologicznie, niekomedogenny, bezalkoholowy
*Testowany klinicznie przez 21 kobiet.

Wyniki
Po 1 tygodniu
96% zgadza się, że zabieg ten nie piecze i nie podrażnia skóry
95% zgadza się, że ten zabieg nie wysusza skóry
92% zgadza się, że zabieg ten w widoczny sposób zmniejsza widoczność nowych wyprysków
92% zgadza się, że zabieg ten przyspiesza gojenie wyprysków
*Przetestowane przez 101 kobiet.

Kluczowe składniki:
• Ekstrakt z ryżu Koshikari z Hyogo: łagodzi skórę i zapobiega nadmiernemu utlenianiu sebum, głównej przyczyny wyprysków.
• Kwas salicylowy: delikatnie usuwa martwe komórki skóry i odblokowuje pory, poprawiając niedoskonałości.

Sposób użycia: Nakładaj jako ostatni krok rutynowej pielęgnacji skóry. Rano zastosuj krem z filtrem przeciwsłonecznym. Można stosować na makijaż. Nabierz ilość wielkości ziarenka ryżu na opuszki palców i nakładaj na problematyczne miejsca do 2-3 razy dziennie.

• Działanie: redukuje wypryski
• Typ skóry: mieszana/tłusta, normalna, sucha

Skład: WATER･BUTYLENE GLYCOL･DIPROPYLENE GLYCOL･DIMETHICONE･PEG-6･PEG-32･PEG-240/HDI COPOLYMER BIS-DECYLTETRADECETH-20 ETHER･ERYTHRITOL･GLYCERIN･PEG/PPG-14/7 DIMETHYL ETHER･DIPOTASSIUM GLYCYRRHIZATE･PAEONIA ALBIFLORA ROOT EXTRACT･HYDROLYZED RICE EXTRACT･CITRUS DEPRESSA PEEL EXTRACT･ISOSTEARYL ALCOHOL･CARBOMER･POTASSIUM HYDROXIDE･SODIUM METAPHOSPHATE･ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER･BHT･PHENOXYETHANOL･BENZOIC ACID